Two Photon Lithography

 

Dip-in Two Photon Lithography, DTPL 또는 Dip in Laser Lithography, DiLL 방식은 기존의 oil-immersion 방식이 특정 두께와 투명한 재질을 가진 substrate 위에서만 구조체를 출력할 수 있다는 단점을 극복하고자 탄생한 기법이다. 따라서 DiLL 방식을 사용할 경우 구조체를 어떠한 재질 위에서도 출력할 수 있게 된다.

 

또, 레이저가 substrate 바닥 아래에서 광 에너지를 인가하여 구조체를 출력하는 oil immersion 방식은 태생적으로 레이저의 가동 범위에 한계가 있어 큰 구조체를 출력할 수 없다. (구조체 출력에 높이 한계가 있다.) 반면에 DiLL 방식은 레이저가 substrate 위에서 광 에너지를 인가하여 구조체를 출력하므로 렌즈와 photoresist의 접촉이 끊어지지 않는 상에서는 자유롭게 구조체를 출력할 수 있다.

 

하지만, DiLL 방식도 단점은 존재한다. (정확하게 이해하지 못했으나 원문을 그대로 번역하면 다음과 같다.)

The lens is in direct contact with the photoresist. The refractive index, RI of the photoresist is tuned during its formulation to avoid undesirable refractive effects at the interface of the lens of the photoresist. This is one of the main limitations of DTPL, it requires RI tuning of all materials that are used in DTPL.

해석하자면 포토레지스트에 대해 조정(tuning)이 필요하다는 말인데 왜 단점인지 그리고 왜 값을 조정해주어야 하는지는 잘 모르겠다.

 

Reference

Direct Laser Writing, What is Dip-in Two-Photon Lithography?